光学邻近效应修正
(超大规模集成电路先进光刻理论与应用学术语)
光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction,OPC)就是使用计算方法对掩模版上的图形做修正,使得投影到光刻胶上的图形尽量符合设计要求,是一种光刻分辨率增强技术。OPC主要在半导体器件的生产过程中使用。在光刻工艺中,掩模上的图形通过曝光系统投影在光刻胶上,由于光学系统的不完善性和衍射效应,光刻胶上的图形和掩模上的图形不完全一致。这些失真如果不纠正,可能大大改变生产出来的电路的电气性能。
知识树
时光轴
论点集
总题库
阅读模式
知识树 创建页面
知识树 创建说明
领域
提 交
集成电路
电子学
物理
词条相关
词条 主页
》
词条 科普
》
词条 事件
》
词条 题库
》
词条 知识
》
加载更多
加载更多
加载更多
加载更多