光学邻近效应修正
(超大规模集成电路先进光刻理论与应用学术语)
光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction,OPC)就是使用计算方法对掩模版上的图形做修正,使得投影到光刻胶上的图形尽量符合设计要求,是一种光刻分辨率增强技术。OPC主要在半导体器件的生产过程中使用。在光刻工艺中,掩模上的图形通过曝光系统投影在光刻胶上,由于光学系统的不完善性和衍射效应,光刻胶上的图形和掩模上的图形不完全一致。这些失真如果不纠正,可能大大改变生产出来的电路的电气性能。
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