光学邻近效应修正

光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction，OPC)就是使用计算方法对掩模版上的图形做修正，使得投影到光刻胶上的图形尽量符合设计要求，是一种光刻分辨率增强技术。OPC主要在半导体器件的生产过程中使用。在光刻工艺中，掩模上的图形通过曝光系统投影在光刻胶上，由于光学系统的不完善性和衍射效应，光刻胶上的图形和掩模上的图形不完全一致。这些失真如果不纠正，可能大大改变生产出来的电路的电气性能。