EUV

1965年Intel公司创始人之一戈登·摩尔曾提出著名的摩尔定律：当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。
数十年来这个定律一直有效，可左右它的却不是我们耳熟能详的Intel或AMD等半导体巨头，而是一家外行人并不知名光刻机设备公司。
目前全球绝大多数半导体生产厂商都需要排着队向它购买最新型的光刻机才能将自己的制程提高到最先进的水平。
一台最先进的EUV光刻机价格至少1亿欧元，而且还有市无价。
在半导体制程上，中国之所以一直落后于世界先进水平，最主要是因为西方的瓦森纳协定禁止将最先进的光刻机出口到中国。

这是一家光刻机公司，也是世界上唯一一家有能力生产极紫外光刻机的公司，而极紫外光刻机又是决定各大半导体制造商能否生产制程5nm以下芯片的关键设备，所以它也是一家能够决定世界科技未来的公司。
这家公司成立于1984年，总部位于荷兰的艾恩德霍芬，是一家荷兰公司，由飞利浦与ASMI合资创立。
由于成立时间较晚，这家公司在光刻机设备领域一直处于弱势地位。在此期间，光刻机的市场主要由日本的尼康、佳能等公司把持。
直到2004年，世界光刻机原本的技术路线干式光刻机发展遇到了瓶颈。在这关键时刻，它接受了华裔学者时任台积电总监级工程师的林本坚的建议，转而发展浸润式光刻机，并在台积电的协助之下研发出了精度更高的浸润式光刻机，这才成就了它在当今光刻机市场一家独大的局面。
它虽然是世界上最大的光刻机公司，但它的最先进光刻机产量却并不高，各大半导体制造商想买还得排队，而且它出货有自己的潜规则，优先出货给那些投资过自己的公司，比如台积电、英特尔和三星等。
这就是当今世界最大的光刻机制造公司——。中国之所以在芯片制造上落后，很大一部分原因就是不能第一时间拿到它生产的光刻机，甚至至今拿不到一台当前最先进的EUV。

这是半导体制造公司生产芯片过程中必不可少的一种设备，是决定半导体生产工艺制程最核心的设备。
目前，国际上能够生产这类设备的公司主要有荷兰的ASML和日本的尼康、佳能，还有中国的上海微电子。在这4家公司当中，ASML凭借着自家的EUV占据了绝对的高端，日本的尼康和佳能则多年难有进步，停留在中端，而上海微电子则只能生产部分的低端设备。
这种设备产量极低，但价格高昂，而且保养极端讲究。以当今世界最先进的EUV为例，2019年年产量也就才26台，每台售价1.2亿美元，机器即便在不工作的时候也必须确保环境恒温、恒湿、无振动。为了防止地震带来的振动影响，放置机器的工厂还必须采用特殊的避震设计。
这种设备是个超级电老虎，一台机器的用电量就几乎相当于一个小城市，而能量的利用率却低到令人发指。同样以EUV为例，其工作输出功率大概是250瓦，但输入功率却高达 125万瓦，能量利用率只有0.02%，这还不包括配备的辅助冷却系统耗电量。
这就是。