过氧硫酸清洗
(半导体相关)
过氧硫酸(PeroxymonosulfuricAcid)又称为CARO"sacid,其主要由硫酸加双氧水反应生成,反应式如下:H2SO4+H2O2<=>H2SO5+H2OH2SO5为一强氧化剂,可将有机物氧化分解为CO2+H2O,因此在IC制程中常用来去除残余的光阻,另外对金属污染及微尘污染也有相当好的清洗效果。Piranha原意为食人鱼,在这里则是用来形容过氧硫酸与光阻的间的剧烈反应。
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