当我们把硅芯片暴露在含氧的环境里时，例如氧气或水，芯片表面的硅原子便会进行如下（一）（二）所示的氧化反应，然后在芯片的表面长出一层二氧化硅层。因为（二）式所示的氧化反应涉及到水分子，虽然进行反应的水分子不见得是以液态的形式存在，但我们习惯以干式氧化（DryOxidation）来称呼（一）式的反应，而以湿式氧化（WetOxidation）来表示（二）式。因为这两个反应在室温下便得以进行，所以硅芯片的表面通常都会由一层厚度约在数个?到20?不等的SiO2所覆盖。这层因为空气里的氧以及水分子所自然形成的SiO2,则称为"原始氧化层（NativeOxidation）"。