四氟化碳的应用

四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。

当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。

1、电子工业
四氟化碳的应用作为电子工业中等离子蚀刻工艺中常用的工业气体，是二氧化硅、氧化硅等薄膜的等离子蚀刻剂。

2、低温制冷
四氟化碳作为一种制冷剂，与C2F6、C3F8的全球变暖趋势的下限值分别为620、190和53，呈明显下降趋势，且远小于氯氟烃、SF6和CO2。

3、电力工业
四氟化碳是良好的电气绝缘和灭弧材料，可作为变压器、电力开关的绝缘气体。

4、太阳能工业
可用于太阳能电池的生产

5、航天工业

控制宇宙火箭姿态

6、金属冶炼和塑料工业
由于四氟化碳的化学稳定性极强，还可用于金属冶炼和塑料行业等。