光阻（PhotoResist）'为有机材料，系利用光线照射，使有机物质进行光化学反应而产生分子结构变化，再使用溶剂使的显像。目前一般商用光阻主要含二部份(1)高分子树脂(2)光活性物质，依工作原理不同可分为正，负型二类:(1)正型:光活性物质为DIAZOQUINOUE类，照光前难溶于碱液中，有抑制溶解树脂功能，照光后产生酸，反有利于碱液溶解，因此可区分曝光区与非曝光区。(2)负型:光活性物质为Diazlde类，照后生成极不安定的双电子自由基，能与高分子树脂键结，而增加分子量，选择适当溶剂便可区分分子量不同的曝光区与非曝光区。