非平衡磁控溅射

（材料科学技术）
非平衡磁控溅射（unbalanced magnetron sputtering），材料科学技术名词，磁控靶边缘的磁力线呈发散状直达基底表面，在基底表面形成大量离子轰击，直接干预基底表面溅射成膜的过程。
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