非平衡磁控溅射

（材料科学技术）

非平衡磁控溅射（unbalanced magnetron sputtering），材料科学技术名词，磁控靶边缘的磁力线呈发散状直达基底表面，在基底表面形成大量离子轰击，直接干预基底表面溅射成膜的过程。