V形槽隔离

V形槽隔离（V-groove isolation）是双极集成电路的一种隔离技术。它利用硅的某些晶面在一定的腐蚀液中腐蚀速度的不同，即所谓各向异性腐蚀技术，从而得到可以把元器件分开的隔离槽。V形槽隔离是用各向异性腐蚀的方法在隔离区形成V型沟槽的一种空气隙隔离。由于元件间以空气介质隔离， 因此，晶体管的基区和集电极可以靠边。这就大幅度减少了集电极侧壁电容；同时，晶体管面积可减小到常规pn结隔离的1/6。V形槽隔离技术有利于提高速度和集成度。