V形槽隔离
(双极集成电路的隔离技术)
V形槽隔离(V-groove isolation)是双极集成电路的一种隔离技术。它利用硅的某些晶面在一定的腐蚀液中腐蚀速度的不同,即所谓各向异性腐蚀技术,从而得到可以把元器件分开的隔离槽。V形槽隔离是用各向异性腐蚀的方法在隔离区形成V型沟槽的一种空气隙隔离。由于元件间以空气介质隔离, 因此,晶体管的基区和集电极可以靠边。这就大幅度减少了集电极侧壁电容;同时,晶体管面积可减小到常规pn结隔离的1/6。V形槽隔离技术有利于提高速度和集成度。
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