低压化学气相沉积

（半导体相关）
LPCVD的全名是LowPressureChemicalVaporDeposition,即低压化学气相沉积。这是一种沉积方法。在IC制程中，主要在生成氮化硅，复晶二氧化硅及非晶硅等不同材料。
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