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FinFET
(半导体技术)
FinFET全称Fin Field-Effect Transistor,中文名叫鳍式场效应晶体管,是一种新的互补式金氧半导体晶体管。FinFET命名根据晶体管的形状与鱼鳍的相似性。这种设计可以改善电路控制并减少漏电流,缩短晶体管的闸长。该项技术的发明人是加州大学伯克利分校的胡正明(Chenming Hu)教授 。胡正明教授1968年在台湾大学获电子工程学士学位,1970年和1973年在伯克利大学获得电子工程与计算机科学硕士和博士学位。现为美国工程院院士。
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FinFET,当今半导体行业最主流的技术
在现在的半导体行业当中,无论台积电、三星还是英特尔,都将FinFET技术作为最主要的技术进行半导体生产。
胡正明,当今半导体行业第一人
胡正明,因为发明了现在半导体行业最主流的2个技术方向,FinFET和FD-SOI,而被认为是半导体行业的第一人,甚至还因为发明了FinFET而在2015年获得了美国国家技术创新奖。
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