雾缺陷

（半导体硅材料表面的微缺陷）

雾缺陷，半导体硅材料表面的一种微缺陷。。是硅抛光在-100度高温处理后，再用化学腐蚀在表面出现的高密度腐蚀坑，使光滑的表面变成雾状，因此得名。