高岭土层间化合物（kaolin intercalated compound），工学-矿冶工程-〔矿业工程〕-选矿-矿物材料-矿物插层，利用化学键合、离子交换等原理使插层剂克服高岭土层间作用力插入层间，与高岭土内表面基团相互作用形成的层间化合物。插层不破坏高岭土层状结构。高岭土层间距较小（仅0.72纳米），阳离子交换容量小，层间氢键作用强，硅氧层和铝氧层间有不对称效应，黏土无法发生膨胀，与一般有机化合物发生插层反应比较困难。只有少数有机分子能够直接插入高岭土层间，如二甲亚砜、肼、甲酰胺、乙酰胺、N-甲基甲酰胺等。这些有机分子的共同特点是分子中含有羰基或氨基，能够与硅酸盐结构单元层发生较强偶极作用，或能与高岭土层间表面发生键合作用。有些分子虽不能直接进入层间，但可以通过取代、夹带的方式间接进入高岭土层间，如甲醇、苯甲酰胺、脂肪酸盐、烷基胺等。高岭土层间化合物有许多不同于高岭土或插层分子的物理化学性质，包括形貌特征、比表面积、稳定性、反应活性等。高岭土通常晶片棱角明显，片层纹理清晰。经插层后，有机物常吸附包裹在高岭土表面，使高岭土片层纹理模糊、棱角钝化。