照明光瞳整形（pupil shaping），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻机照明系统，产生曝光所需的照明模式。在投影式光刻机中，针对不同的掩模图形采用与之匹配的不同照明模式，以增强光刻分辨率、增大焦深。常用的照明模式有传统照明、环形照明、二极照明和四极照明等（见图）。常见的照明模式示意图通常光刻机中有两种光瞳整形方法，即基于衍射光学元件的光瞳整形方法与基于微反射镜阵列的光瞳整形方法。前者采用衍射光学元件对入射光的角谱进行调制，而后通过傅里叶变换镜组在其后焦面获得所需的照明模式。随着芯片特征尺寸的不断减小，对于28纳米及以下节点芯片曝光，自由光瞳照明成为提高分辨率和成像质量的必备手段。自由光瞳照明可以采用基于衍射光学元件的光瞳整形方法实现，但因不同照明模式需要定制不同的衍射光学元件而限制了其使用。而采用基于微反射镜阵列的光瞳整形方法则可灵活设置照明模式。微反射镜阵列由二维转角连续可调的微反射镜组成，通过独立调节各微反射镜阵列角位置分布实现所需的照明模式。