界面扩散（boundary diffusion），工学-材料科学与工程-材料基础-扩散，扩散物质在多晶体样品中两晶粒间界面或者两个相间界面的迁移。在金属工艺中，界面扩散很重要，因为它对许多变化过程如扩散相变、晶粒长大等所产生的影响，常常比晶格扩散还要大。研究界面扩散也有助于了解它的结构。这方面的研究还不多，但从钍在钨中的晶界扩散及银在银晶界中的自扩散的实验结果，已可以明显地看到它们的扩散率都比在晶格中的扩散率大，但比在表面上的小（见表面扩散）。测量银在铜的晶界中的扩散率，还发现它和相邻两晶粒的夹角大小有关，当时，扩散最快。与表面扩散相似，界面扩散也有各向异性的性质。根据晶界的位错模型，这种性质是可以预料的。显然，沿着位错管的扩散率不会和垂直方向的相同。银的晶界自扩散实验证明了这一点。并且当晶粒的夹角很小时，晶界扩散的各向异性现象更明显；夹角大到45°时，这性质仍然存在。银在铜晶界中的扩散也出现各向异性现象。