刻蚀设备

刻蚀设备的发展和光刻技术，互连技术密切相关。High K / Low K材料，铜互连，Metal Gate，double Pattern等技术的发展都对刻蚀设备提出了新的需求·在200mm晶圆时代；介质、多晶以及金属刻蚀是刻蚀设备的三大块。进入300mm时代以后，随着铜互连的发展，金属刻蚀逐渐萎缩，介质刻蚀份额逐渐加大。介质刻蚀设备的份额已经超过50%