空心阴极离子镀

空心阴极离子镀（hollow cathode discharge deposition，HCD），机械工程名词，利用空心阴极发射的电子束使坩埚内镀膜材料蒸发并电离，在基片上的负偏压作用下，离子具有较大能量，沉积在基片表面上的一种镀膜方法。