光学薄膜反射率（optical thin film reflectance），工学-光学工程-材料与器件-光学薄膜-光学薄膜表征-光学薄膜反射率，为光学薄膜表面反射光强度与入射光强度的比值，其数值多以百分数表示。不同材料的薄膜以及薄膜的厚度均会影响反射率，同一薄膜结构对不同波长的光也表现出不同的反射率。反射率是光学薄膜器件的最基本的光学特征之一，也是评估光学薄膜质量的重要指标。对于透明的介质薄膜，其反射率（）和透射率()之和近似为100％，在测量精度要求不高的情况下，采用的方法近似得到。但是考虑吸收的情况下，则将不再适用。如对吸收膜系或对损耗敏感的激光高反射镜，，此时反射率的测量变不可缺少。光学薄膜反射率的测量方法有：①单次反射法，是最基本的反射率测量方法，使用USPM-RU反射率测试仪，在使用参考样品的时候，参考样品会影响测量的精度；②V-W光路，利用两次反射此时的精度不会被参考样品所影响。测量工作中仍存在着某些难点，如在反射率测量中，反射光路的变化灵敏。因此在有无样品的情况下，光电探测器光敏面上的光斑位置往往会变动，使得误差明显增加。