光刻机照明系统（lithography illumination system），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻机照明系统，为投影物镜成像提供特定光线角谱和强度分布的照明光场。它是复杂的非成像光学系统，介于曝光光源和投影物镜之间。在接触式和接近式光刻机中，照明系统的功能相对简单，主要是实现强度均匀分布的照明光场。在采用准分子激光器作为曝光光源的步进扫描投影式光刻机中，光刻机照明系统的主要功能是产生特定光线角谱和强度分布的照明光场、探测激光脉冲能量、产生特定的偏振模式等。准分子激光器作为曝光光源的步进扫描投影式光刻机照明系统主要包括光束处理单元、照明光瞳整形单元、照明均匀化单元、中继成像单元、能量探测单元和偏振照明单元等。①光束处理单元，与曝光光源直接相连，主要实现光束扩束、光束传输、光束稳定和透过率控制等功能，其中光束稳定由光束监测和光束转向组成，用于消除曝光光源出射光束的指向漂移和位置波动。②照明光瞳整形单元，主要用于控制照射到掩模板上照明光场的光线角谱，掩模面照明光场光线角谱与光瞳面光强分布（又称照明模式）相对应。