漫散射分析

漫散射分析（X-ray diffuse scattering），工学-核技术-核分析技术-同步辐射X射线衍射分析-漫散射分析，对X射线漫散射的各种研究。X射线漫散射有多种产生机制，包括康普顿漫散射、热漫散射、黄昆漫散射以及晶体表面粗糙度引起的漫散射等。其中，康普顿漫散射来源于电子对X射线光子的非弹性散射，可以用来研究电子构型，应用较少；热漫散射由晶体中原子或离子的热振动引起，可用来测量声子色散谱，应用较广泛；而黄昆漫散射是由晶体中的点缺陷导致的晶格畸变引起的，可用来研究晶体的点缺陷结构，相对来说其应用最广泛。所以人们经常用漫散射代指黄昆漫散射。1947年，在英国布里斯托大学攻读博士学位的中国学者黄昆从理论上分析了固溶原子，即点缺陷在晶体中形成的长程应力场分布以及在晶体的布拉格衍射峰附近产生的X射线漫散射强度分布。1967年，J.派斯尔（J.Peisl）等人实验观测到了这种由晶体中的缺陷引起的X射线漫散射，并将其称之为黄昆漫散射。黄昆漫散射的强度随着点缺陷的类型和浓度等因素的不同而不同，但一般比热漫散射强度还要弱。