光学抛光（optical polishing），工学-光学工程-材料与器件-光学设计与加工-光学加工-光学抛光，用来加工光学元件表面的关键技术，是得到超光滑光学元件的最终手段。超高光滑光学元件要求其表面均方根粗糙度低于1纳米，表面波纹度低、面形精度高；表面弊病与亚表面损伤尽量小；表面残余的加工应力极小；晶体表面晶格结构完整、表面无晶格错位等。传统的抛光机理一般是磨料对工件的机械磨削、工件表面的热流动、抛光液用共同作用的结果。对于超光滑表面的加工有多种方法，从去除方式上可以分为3种：①以机械磨削去除为主的超光滑表面加工技术。以传统的抛光技术作为依托，采用特殊辅助措施和精细磨料以实现极其微弱的磨削从而减小表面的损失以获得超光滑表面，如浴法抛光、浮法抛光、聚四氟乙烯抛光及延展性抛光等。②采用化学方法进行表面去除，实现无破坏层超光滑表面的加工。利用抛光液的化学作用或化学气体与工件表面发生化学反应，产生易挥发化合物排出，达到去除材料获得超光滑表面的目的，如等离子体辅助抛光、湿法化学抛光、干法化学抛光与胶态硅粒抛光等。③物理碰撞方法能够实现原子量级的去除。