光刻光源（photolithography optical source），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻光源，满足光刻机实现半导体精细刻画的光源。准分子激光系统是典型意义上的一种气体激光器，以惰性气体和卤族元素气体为工作介质，通过有限空间充注的气体工作介质高压放电产生等离子体效应，借助于相应工作介质的粒子能级跃迁，在激发态上能级形成短暂（约100纳秒）的分子态结合形式，继而经由激发态向基态的跃迁伴随产生相应的激光辐射，基于工作介质材料的带隙特性，激光辐射通常处于深紫外波段（小于300纳米）。面向于光刻应用的准分子激光光源需要同时满足高重频激光运转、大能量激光输出和窄线宽光谱控制等多个方面的技术要求。按照功能结构划分，准分子激光系统主要分为激光放电腔模块、线宽压窄模块、参数检测模块、控制模块和辅助管理模块等。