黄散射（Huang's diffuse scattering），工学-材料科学与工程-电子信息材料-半导体材料-半导体材料性能检测-[结构检测]，杂质或缺陷引起的X射线漫散射。X射线被物质原子的电子散射，是材料结构分析的一种有效手段。对于完整晶体，当入射与散射的X射线波矢差等于晶体倒格矢时，会出现布拉格峰。峰高正比于样品体积的平方，峰宽反比于晶体尺度。然而，实际材料往往偏离严格的周期排列。由于原子热运动在布拉格峰附近产生的附加散射强度，称为热漫散射；由于外来杂质与缺陷引起的X射线漫散射，称为黄（昆）漫散射（HDS），或简称黄散射，它由中国物理学家黄昆首先提出并做出理论分析。1947年，黄昆研究了稀固溶体的X射线散射，估算了体积不同的杂质原子所引起的长程晶格畸变对X射线衍射的影响，推导了漫散射强度公式，从而开创了X射线衍射研究的一个新的分支领域。黄散射的主要特征为：①杂质原子的存在，使布拉格衍射峰强度减小一个正比于倒格矢平方且与杂质浓度有关的因子。②黄散射极大值出现在布拉格峰附近。③黄散射呈各向异性。在垂直于倒格矢的方向上，漫散射为零。