热施主缺陷
(物理学名词)
热施主缺陷,直拉单晶硅在300~500摄氏度范围进行热处理,会产生大量的施主,使n型单晶硅的载流子浓度增加,电阻率下降,而使p型硅载流子浓度被复合而电阻率上升,最终能转换成n型硅。
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