工艺窗口

光刻工艺容限，也称光刻工艺窗口，指的是保证掩模图形能正确复制到硅片上的曝光剂量和离焦量范围，它包含三个方面的信息：成像精确度、曝光度和焦深。对于成像精确度、曝光度、焦深三个要素，分别可以用不同的参数来表示。