2024北京国际光刻设备及光掩膜技术展览会Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024>>基本信息时间:2024年7月24-26日地点:北京国家会议中心>>展会简介 微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力,21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光