空穴注入材料

空穴注入材料（hole injection materials），工学-材料科学与工程-电子信息材料-光电子材料-显示材料-有机电致发光显示材料，通过增加界面间的空穴注入，改进组件的效率与寿命的材料。通常具有HOMO（最高占据分子轨道）能阶与阳极材料功函数最匹配的结构。常见的空穴注入材料有酞菁铜（CuPc）、星状的多胺（如TNATA）、聚苯胺等。酞菁铜可以形成一个超分子结构的薄膜，具有各向异性的导电性，可显著提高器件的稳定性，是一类重要的空穴注入材料。空穴注入材料主要从电离能方面考虑有机层与阳极界面的势垒，势垒越小，器件的稳定性能越好，因此改变材料的空穴注入能力可通过改善有机层和阳极表面性能两方面实现。