光刻机
(半导体设备)
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
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EMITQD
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【商业】
荷兰的ASML半导体设备制造公司为世界最先进的半导体光刻机制造公司,其生产的最先进的光刻机直接决定摩尔定律是否有效。
ASML-荷兰 全球最大的半导体设备制造公司
光刻机-半导体设备
摩尔定律-科技产品
世界上唯一一家能够生产极紫外光刻机的公司,它决定着世界科技的未来
这是一家光刻机公司,也是世界上唯一一家有能力生产极紫外光刻机的公司,而极紫外光刻机又是决定各大半导体制造商能否生产制程5nm以下芯片的关键设备,所以它也是一家能够决定世界科技未来的公司。
这家公司成立于1984年,总部位于荷兰的艾恩德霍芬,是一家荷兰公司,由飞利浦与ASMI合资创立。
由于成立时间较晚,这家公司在光刻机设备领域一直处于弱势地位。在此期间,光刻机的市场主要由日本的尼康、佳能等公司把持。
直到2004年,世界光刻机原本的技术路线干式光刻机发展遇到了瓶颈。在这关键时刻,它接受了华裔学者时任台积电总监级工程师的林本坚的建议,转而发展浸润式光刻机,并在台积电的协助之下研发出了精度更高的浸润式光刻机,这才成就了它在当今光刻机市场一家独大的局面。
它虽然是世界上最大的光刻机公司,但它的最先进光刻机产量却并不高,各大半导体制造商想买还得排队,而且它出货有自己的潜规则,优先出货给那些投资过自己的公司,比如台积电、英特尔和三星等。
这就是当今世界最大的光刻机制造公司——
。中国之所以在芯片制造上落后,很大一部分原因就是不能第一时间拿到它生产的光刻机,甚至至今拿不到一台当前最先进的EUV。
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