MEVVA离子注入（metal vapor vacuum arc ion implantation），工学-核技术-工业核技术，使用金属蒸气真空弧（metal vapor vacuum arc，MEVVA）的离子注入技术。原理MEVVA离子注入，指注入的是金属离子（包括导电能力好的碳元素）。如图是MEVVA离子源注入设备。金属蒸气出口引出电极加高压，通常MEVVA离子源高压在0～80千伏，将金属离子在很短的距离内加速（1～5毫米），所以加速器电场非常强。MEVVA离子源注入设备MEVVA离子源因为电极加工条件所限，表面或多或少会存在着毛刺，有毛刺的地方容易发生击穿。MEVVA离子源通过两种锻炼方式消除毛刺：一种是打火锻炼，通过反复高压打火，达到消除局部毛刺等目标；另一种是弧光放电锻炼，20世纪80年代发展的高功率等离子体轰击电极表面，使电极温度升高到5000℃，从而消除表面吸附的气体、毛刺、碳氢化合物等。