等离子鞘离子注入

（材料科学技术）
等离子鞘离子注入（plasma sheath ion implantation，PSII），材料科学技术名词，在等离子体中，加有负脉冲高电压的样品或工件表面形成等离子鞘层，对工件进行离子注入的过程。
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