阴极电弧源

阴极电弧源，离化率高，离子流密度大，离子流能量高，沉积速率快，膜基结合力好，利用固体靶材，没有熔池，靶材可以任意位置安装以保证镀膜均匀，可以沉积金属膜、合金膜，也可以反应镀合成各种化合物膜(氮化物、碳化物、氧化物)，甚至可以合成DLC膜、CNx膜等，设备操作简单，技术易于推广。上世纪80年代推广真空阴极电弧镀TiN，很快席卷全球，90年代掀起了阴极电弧镀膜热，成为硬质保护膜生产主流技术，广泛应用在工具镀、装试镀和特殊功能镀膜领域。