光刻投影物镜（lithography projection objectives），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻投影物镜，将集成电路芯片的掩模图形线条按照-0.25的微缩倍率经曝光投影后复制到硅片上的光刻机组件。是光刻机中最精密的核心部件。简史自20世纪80年代以来，量产线上光刻机投影物镜的工作波长经历了436纳米（g线）、365纳米（i线）、248纳米（KrF准分子激光）、193纳米（ArF准分子激光）的变化，物镜的NA数经历了由0.16～1.35（ArFi，浸没式）的历程，而物镜的光学结构也从面向65纳米以前节点的全折射式变为了面向45纳米及以下节点的折反式。主流NA1.35的浸没式ArFi投影物镜由20多个最大口径超过300毫米的球面或非球面元件构成，镜头总长度超过1米，总重量近1吨，其研发成本已占光刻机整机研发投入的50%以上。按成像光学系统分类，光刻投影物镜实质上是一种极小像差的双远心成像系统，其成像质量直接决定了硅片上曝光线条的特征尺寸（CD），也决定了集成电路的集成度。