应力盘抛光

应力盘抛光（stress lap polishing），工学-光学工程-材料与器件-光学设计与加工-光学加工-光学抛光-应力盘抛光，应力盘抛光是利用计算机控制，以壳体弹性变形数学力学基础应用为基础，应用可控弹性变形大尺寸磨具应力盘，采用主动变形技术的抛光技术。应力盘抛光技术的产生是为了满足具有较大偏离量的大口径小F数的高陡度非球面的研磨和抛光要求。理论研究表明非球面不同位置的面形变化可以表示为离焦、慧差、象散之和，而这三项可以通过在磨头边沿施加力和力矩的方法来得到，并采用材料力学的手段证明了该方法的可行性，因此应力盘抛光技术是可以实现的。20世纪90年代初美国亚利桑那大学斯迪瓦天文台大镜实验室（SOML）开发了应力盘抛光技术。但由于这种抛光方法需要依赖于计算机控制，因此应力盘抛光技术实质上是对CCOS技术的一种发展和补充。初期SOML先后加工了从1.2m到3.5m直径的七件大型反射镜，包括SAO 1.2mf/1.9主镜，Lennon 1.8mf/1.0主镜、Philips Lab 3.5mf/1.5大型非球面反射镜等，21世纪又加工了LBT 8.4mf/1.25大型反射镜。