照明均匀化（illumination homogenization），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻机照明系统，在硅片面形成均匀照明。照明均匀化是光刻机照明系统的核心功能之一。良好的照明均匀性是保证光刻机在曝光场内获得均匀分辨率的重要条件。在步进重复投影式光刻机中，曝光场是投影物镜的视场在硅片面上曝光后形成的曝光区域。在步进扫描投影式光刻机中，曝光场是投影物镜的视场在硅片面扫描曝光后形成的曝光区域，通常要求投影物镜视场内沿非扫描方向的光强为均匀分布，而沿扫描方向的光强为梯形分布或平顶高斯分布，目的是降低激光脉冲量化误差对曝光剂量均匀性的影响。在紫外光长时间辐照下，光刻机照明系统与投影物镜中光学元件的内透过率会降低，表面膜层会劣化，从而导致照明均匀性降低，所以光刻机照明系统还需具有照明均匀性校正功能。照明均匀性校正方法主要有3种：①静态灰度滤波法，通过一块特定透过率分布的校正板进行校正，实现方式简单，但只能校正特定分布的光强分布，且需根据光强分布的变化定期更换。