电子工业用试剂

电子工业用试剂，电子工业范围广，所用材料品种繁多。特别是半导体工业、微电子工业的发展，所用化学试剂也随之迅速发展。自从硅平面工艺建立后，半导体工业获得飞速进展，其中一个重要的原因就是不断开发先进技术和相应的各种新型试剂。又称光致抗蚀剂，随着半导体电路向超高频、高可靠、高集成方向发展。利用光刻工艺刻蚀各种精密的线条一般为 12～1μm，正在研究 0.5μm，越来越细。用作抗蚀涂层的光刻胶是光刻工艺中的关键材料，要求光刻胶的性能、质量也越来越高。因此，在微电子工业中光刻胶是研究、竞争相当活跃的领域。在美国，1982～1986年间光刻胶的销售额年平均增长约14%