掩模图形拆分

双重或者多重光刻技术需要与之匹配的掩模版，也就是说需要根据工艺流程的需要设计两个或多个掩模，通常设计公司会先提供一个版图（光刻所要实现的目标图形，即设计图形），因此，工程师所需要做的就是对该图形进行拆分，以满足多重曝光工艺的要求。例如，对于LELE来说，就需要把设计图形拆分到两个掩模上，如图一所示；而对于SADP来说，就是需要根据目标图形来设计“mandrel”和“cut”掩模。