击穿时延(breakdown lag),工学-电气工程-﹝电工新技术﹞-放电等离子体-﹝放电理论﹞,对绝缘介质施加最高电压为的冲击电压,当电压达到绝缘介质的静态击穿电压时,绝缘介质不会立即击穿,而是经过时间后才发生击穿,这段时间称为击穿时延(见图)。击穿时延在实际测量中,由于静态击穿电压难以得到,常取电压峰值10%~90%的时间段作为击穿时延,有时也会参照电流波形确定击穿时延。击穿时延由统计时延和形成时延两部分组成。①统计时延时段,指从电压上升至静态击穿电压的瞬间开始,到产生能够引发完全击穿的初始电子为止的时间。统计时延取决于实际气隙所处的具体条件(电极状况、电场、电介质组成、压力及温度等),具有明显的随机性,服从统计规律。②形成时延时段,指第一个有效电子出现后,电离开始至击穿通道形成的时间。形成时延包括流注转变时间、流注发展时间和流注发展至高电导通道时间,可以用流注理论进行简单估算:式中为初电子崩转变为流注的临界长度;为电场强度;为电子迁移率;修正系数。一般在短间隙中(1厘米以下),特别是在均匀电场中,击穿时延等于统计时延;在电场不均匀的长间隙中,击穿时延等于形成时延。