浮法抛光

浮法抛光（float polishing），工学-光学工程-材料与器件-光学设计与加工-光学加工-光学抛光-浮法抛光，浮法抛光是以金属锡作为抛光磨盘材料，抛光过程中磨盘和工件浸没在抛光液中，使磨料微粒撞击工件元件表面原子使其脱离工件主体的抛光技术。浮法抛光表面粗糙度可达到亚纳米量级，接近原子尺寸。因此，工件材料的去除是在原子水平上进行的。