分步重复

光学掩模制造设备或者光刻设备采用分步重复的方法把一个（或者一组）芯片图形以阵列的排列方式曝光在感光基片上。在集成电路制造工艺光刻模块中需要使用掩模来进行曝光。利用激光直写系统和电子束直写系统制造掩模版时，可以直接在掩模基片上扫描曝光出与分步重复方式一样的阵列掩膜图形。