当今世界最主流的半导体工艺技术，是为摩尔定律续命的最佳方案

这是一种半导体晶体管设计方案，也是决定半导体工艺制程的技术方案，名叫鳍式场效应晶体管，英文缩写。这项设计的提出者为华人科学家胡正明教授，他在1998-2004年发表了一系列关于这项设计的论文，其目的是为了接替当时即将到达极限20nm的Bulk CMOS物理结构，为摩尔定律续命。这项设计几乎是现在主流的半导体制造商普遍选择的技术方案，除了从AMD中被剥离出来的格罗方德选择了另一个替代方案，也是由胡正明教授提出的FD-SOI晶体管技术。不过，这项半导体工艺技术的极限大概是在5-7nm，而台积电早在2020年年初就已经开始量产5nm芯片了，也就是说这种设计也已经到达了它的极限。现在，世界的各大半导体制造公司正在将工艺技术转向另一项工艺技术，这又是后话了。