脉冲真空电弧离子源

脉冲真空电弧离子源，也称为脉冲等离子体发生器或脉冲多弧离子源。它可在高真空下(3X10-3Pa以上)，利用真空脉冲电弧放电使阴极材料蒸发并电离，形成纯净的等离子体，沉积在基片上之后形成所需膜层。由于在整个工艺过程中只产生纯等离子体，膜层性能稳定，可在低温下生成表面光滑细致且附着力极好的高质量膜层。该离子源可用于各类金属膜、合金膜以及类金刚石薄膜的镀制。采用脉冲真空电弧离子镀技术来研制类金刚石薄膜，不需要氢及其它含氢化合物，所以获得的膜层中不含氢。