光栅衍射对准测量（diffraction grating alignment measure），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻机测量系统，在硅片面或被测物表面制作相位光栅标记，测量光束在照射至相位光栅标记后，产生多级衍射光束，通过光路结构使各级正负级次衍射光束相互发生干涉的测量方法。当被测相位光栅标记发生位置变化时，各级正负级次衍射光束之间产生相位差，对应正负级次光束的干涉条纹或者干涉光强度将发生变化，通过与干涉条纹匹配的探测标记或者干涉光路可以探测这种光强变化，进而获得正负级次衍射光束之间的相位变化，最后根据标记周期，计算获得对应的光栅标记的位置变化，从而获得硅片面或被测物表面相位光栅标记的对准位置。常应用于光刻机掩模硅片对准系统中，高精度的投影光刻机基本都采用光栅衍射对准测量技术。即硅片和掩模上的对准标记均为光栅，硅片上的对准标记为相位光栅，掩膜上的标记为振幅光栅。对准光在照明硅片上的光栅对准标记后产生衍射效应，通过空间滤波器滤掉不要的级次，保留要求的级次，通过成像系统成像到掩模面，并发生干涉，然后由接收器进行接收。