电子注入层

电子注入层（electron injection layer; EIL），工学-光学工程-材料与器件-有机发光材料与有机发光显示技术-有机发光材料发光层，位于电极传输层与阴极之间的膜层。因电子的迁移率和空穴的迁移率在一般有机发光材料中是不相同的，电子的迁移率要比空穴的迁移率低很多，所以在发光层中电子的密度和空穴的密度是不平衡的，而电子注入层的作用就是使电子有效地注入发光层，以保证发光层中载流子浓度的平衡。阴极材料一般采用的是廉价的铝材料，但是铝却相对于镁、锂来说其逸出功是大的，为了补偿铝的逸出功，通常在有机层和金属铝之间插入电子注入层。电子注入层常选用逸出功小的金属材料，如锂、钙，或者金属氟化物、氧化物、无机化合物。有机物也可以用锂配合物。在实际应用中，通常注入层是由锂和钙等金属，氟化物或者氧化物等组合起来构成的。注入层是在有机层和电极之间的界面存在的，有助于电极向有机发光层注入电子。电子注入层是一种超薄膜，一般厚度为0.5～1nm。若是氟化物或者氧化物作为电子注入层使用时，膜厚过大将会影响电子的注入，使器件的性能产生劣化，因此要严格控制电子注入层的膜厚。