脉冲雷射沉积（PulsedLaserDeposition，PLD），亦被称为脉冲雷射烧蚀（pulsedlaserabalation，PLA）为物理气相沉积法的一种(PhysicalVaporDeposition，PVD)是以聚焦后的高功率脉冲雷射射入真空腔体中，对靶材表面进行轰击，由于脉冲雷射能量极强，会将靶材汽化形成等离子蕈状团(plasmaplume)，并沉淀于基板上形成薄膜。此种镀膜法可于高真空、超高真空或通入工作气体的环境下进行(如欲沉积氧化物薄膜，通常会通入氧气作为其工作气体)。于脉冲雷射沉积的过程中，雷射的能量被靶材吸收之后，会将靶材内部的电子激发，使之跃迁，且产生热能等使靶材汽化形成等离子态，于等离子云中，包含分子、原子、电子、离子、微粒、融球体等物质。