气动流场（pneumatic flow field），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻光源，为了保证光刻用准分子激光器正常运转而设计的激光器放电腔内部流场环境。准分子激光器放电腔在高重复频率下运行不仅对放电区的流速有极高要求，而且对流场均匀性和品质有极其苛刻的要求。每次放电后，会严重影响放电区的放电环境，包括气体密度衰减、冲击波、残余离子、电极加热以及放电区的放电产物等。为了使放电环境在下一次放电之前恢复到理想状态，而且不会影响放电稳定性，必须为放电区提供高速均匀的气流。高重频准分子激光器对气动流场的要求包括：①要求在准分子激光器放电增益区产生高速气流，一般要求达到30～60米/秒；②放电增益区内流速的不均匀性应小于10%，密度不均匀性一般应小于5%，甚至更低。为了达到以上要求，需要解决两个难点：①放电腔内部气动结构的优化设计，包括内壁曲线造型设计及优化、导流装置设计以及微流道设计等；②准分子激光器专用风机的设计，多采用贯流风机，设计时必须考虑叶片的数量、分布、角度等参数，为适应高转速运转，还需要保证叶轮的刚度。