纳米压印（nano imprint），工学-材料科学与工程-纳米材料-纳米技术，将具有纳米图案的模板以机械力（高温、高压）在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印得到相应纳米图案的技术。纳米压印技术主要包括：①纳米热压印技术，在硅基板上旋涂热塑性高分子材料——光刻胶，将硅基板上的光刻胶加热到玻璃转换温度以上，利用机械力将模板压入高温软化的光刻胶层内，并且维持高温、高压一段时间，使光刻胶填充到模板的纳米结构内；待光刻胶冷却固化成形之后，释放压力并且将模板脱离硅基板；最后对硅基板进行反应离子刻蚀，去除残留的光刻胶，即可以复制出与模板等比例的纳米图案。②纳米光刻压印技术，在室温、低压环境下利用紫外光硬化高分子的压印光刻技术。纳米光刻压印工艺中，模板材料必须使用可以让紫外线穿透的石英，并且需要在硅基板涂布一层低黏度、对紫外线感光的光刻胶，在模板和硅基板对准完成后，将模板压入光刻胶层并且照射紫外光使光刻胶发生聚合反应硬化成形，然后脱模、刻蚀硅基板上残留的光刻胶完成压印。