光谱控制（spectrometric control），工学-光学工程-光学应用-光刻技术-光刻机-光刻光源，对激光光谱进行宽度压窄和稳定控制。光刻光源一般采用棱镜组和大尺寸光栅组合的线宽压窄方案。棱镜组在扩束的同时降低入射到光栅的光束发散角，棱镜材料为紫外波段高透过率的融石英或氟化钙，通常使用2～4块棱镜可以实现20～40倍的光学扩束。综合考虑棱镜的扩束率、透过率和镀膜工艺水平等条件，棱镜的入射角通常设在68°～74°。光栅一般选用大尺寸和高衍射级次的中阶梯光栅。高重频脉冲的波长抖动和短时间内波长的漂移都会引起光谱的增宽。为减少光谱变化引起的曝光像差，光刻光源的波长测量须实现较高的精度（相对波长）和准确度（绝对波长）。相对波长的测量通过光栅和标准具来实现。将相对波长与原子吸收线进行比较、修正可实现绝对波长的校准。通过实时测量光谱参数（波长、线宽），调节光栅入射角或双腔放电间隔等参量，可实现窄线宽光谱的稳定控制。